, ,

"Исследование атомной и электронной структуры собственных дефектов и их комплексов в оксидных диэлектриках перспективных для элементной базы микроэлектроники". Тимофей Викторович Перевалов, ИФП СО РАН, 28.10.2019

isp_espresso_201910_perevalov.pdf

Состав коллектива

Аннотация

Посредством квантово-химического моделирования электронной структуры в рамках теории функционала плотности в программном пакете quantum ESPRESSO изучены свойства вакансий кислорода и их комплексов в оксидных диэлектриках SiO2, HfO2, ZrO2, Hf0.5Zr0.5O2, Ta2O5. Актуальность исследований обуславливается необходимостью установления роли вакансий кислорода в процессах локализации заряди и резистивного переключения. Исследования Ta2O5 и HfO2 выявили, что голубая люминесценции с энергией около 2.7 эВ обусловлена кислородными вакансиями; определена термическая и оптическая энергии ионизации вакансии кислорода. По данным моделирования m-ZrO2, локализация электрона на вакансии О осуществляется по поляронному механизму и зарядовая плотность распределяется между двумя ближайшими атомами Zr. Моделирование Hf0.5Zr0.5O2 позволило выявить, что травление ALD плёнки Hf0.5Zr0.5O2 ионами Ar+ приводит к формированию обеднённого кислородом слоя с концентрацией вакансий около 8.7×1020 см-3. Построена энергетическую диаграмму SiOx, позволяющая оценить энергию потенциальных барьеров для электронов и дырок на границе a-Si/SiOx и c-Si/SiOx для различных значений x.

Публикации